PE-25 jest doskonałym rozwiązaniem dla działów badawczych R&D zakładów produkcyjnych, laboratoriów badawczych oraz firm produkcyjnych szukających prostego systemu do pracy z plazmą. Modyfikacja powierzchni plazmą pod kątem czyszczenia, podtrawiania bądź pełnego trawienia ma szczególne zastosowanie w procesach takich jak: bonding, drukowanie, zwiększenie zdolności absorpcyjnych powierzchni.
Systemy PlasmaEtch mogą być stosowane praktycznie do wszystkich materiałów. Główną zaletą oddziaływania plazmy na powierzchnię jest usuwanie zanieczyszczeń organicznych oraz wzrost energii powierzchniowej.

Dostępna wersja PE-25 Venus jest w pełni zautomatyzowanym systemem z możliwością zarządzania procesami z poziomu komputera. System wyposażony jest w elektroniczne zawory gazowe w celu zachowania wysokiej precyzji kontroli przepływu gazów. Umożliwia nie tylko zautomatyzowaną obsługę procesów, lecz także tworzenie, edytowanie i zapisywanie receptur oraz zarządzanie procesami wieloetapowymi.

Dostępny jest także model PE-50, o rozmiarze podłoży/próbek: 101.5 x 152.0 mm.

Specyfikacja techniczna: