PE-25 jest doskonałym rozwiązaniem dla działów badawczych R&D zakładów produkcyjnych, laboratoriów badawczych oraz firm produkcyjnych szukających prostego systemu do pracy z plazmą. Modyfikacja powierzchni plazmą pod kątem czyszczenia, podtrawiania bądź pełnego trawienia ma szczególne zastosowanie w procesach takich jak: bonding, drukowanie, zwiększenie zdolności absorpcyjnych powierzchni.
Systemy PlasmaEtch mogą być stosowane praktycznie do wszystkich materiałów. Główną zaletą oddziaływania plazmy na powierzchnię jest usuwanie zanieczyszczeń organicznych oraz wzrost energii powierzchniowej.

Dostępna wersja PE-25 Venus jest w pełni zautomatyzowanym systemem z możliwością zarządzania procesami z poziomu komputera. System wyposażony jest w elektroniczne zawory gazowe w celu zachowania wysokiej precyzji kontroli przepływu gazów. Umożliwia nie tylko zautomatyzowaną obsługę procesów, lecz także tworzenie, edytowanie i zapisywanie receptur oraz zarządzanie procesami wieloetapowymi.

Dostępny jest także model PE-50, o rozmiarze podłoży/próbek: 101.5 x 152.0 mm.

Model PE-50

Specyfikacja techniczna:

Komora próżniowa6061 T-6 AL, cylindryczna
średnica: 125.00 mm
Konfiguracja elektrodyHoryzontalna, planarna, układ prostokątny
88.0.0 x 177.00 mm
Zasilacz RF150 W x 50 KHz RF Power Supply
Miernik próżniTermopara 0-1 Torr
System kontroli oparty na mikroprocesorzeBezpośrednie sterowanie urządzenia: PLC
Wymiary, (WxDxH)360.0 x 360.0 x 460.0 mm
Waga25 kg
Stanisław Gołębiewski
Application Engineer
Stanisław Gołębiewski
Application Engineer